一、引言
在包括請求書、權(quán)利要求書、說明書(必要時應(yīng)當有附圖)及其摘要等一系列文件的專利申請文件中,權(quán)利要求書作為法律文件之一無疑起著非常重要的作用。權(quán)利要求書本質(zhì)的作用之一在于確立專利權(quán)的保護范圍,無論是專利的代理、審查、推廣,還是在無效宣告及侵權(quán)訴訟等程序中,都是以權(quán)利要求書所提出的技術(shù)方案為基礎(chǔ)[1]。由此可以看出,撰寫出高質(zhì)量的權(quán)利要求書對于專利新申請是十分重要的[2]。有質(zhì)量的專利就是有效的專利,而對專利質(zhì)量的評價主要分為技術(shù)評價、法律評價和市場評價三個指標。通過專利申請文件撰寫的技巧,能夠?qū)δ承@|(zhì)量指標進行改進。
專利的保護范圍由權(quán)利要求進行限定,而權(quán)利要求的限定具有廣度與深度兩個維度,一項權(quán)利要求本身的保護范圍,更多的是體現(xiàn)廣度,一項專利或其申請中權(quán)利要求數(shù)量的多少,體現(xiàn)了申請人在深度這一維度的策略性布局。
二、專利申請權(quán)利要求書的概述
《專利法》第59條第1款規(guī)定:發(fā)明或者實用新型專利權(quán)的保護范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準,說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容[3]。因此,權(quán)利要求書是確定專利權(quán)保護范圍的依據(jù),也是判斷他人是否侵權(quán)的依據(jù)。
權(quán)利要求書和權(quán)利要求是兩個不同的概念,不能混淆,更不能簡單的劃等號。權(quán)利要求書是專利申請人為獲取專利權(quán)而撰寫并向?qū)@姓块T提交的一項重要文件。權(quán)利要求則是指權(quán)利要求書中記載的具體的技術(shù)特征,一項權(quán)利要求書中可以包含多個權(quán)利要求。權(quán)利要求書是權(quán)利要求的載體。
專利申請獲得授權(quán)后,權(quán)利要求是作為限定專利保護范圍的依據(jù),其對專利的概括程度與專利保護范圍的大小有密切關(guān)系。為了充分保護申請人的利益,權(quán)利要求應(yīng)能夠謀求盡可能大的保護范圍。一般而言,權(quán)利要求數(shù)量越多,專利的保護范圍越大,說明專利的原創(chuàng)性越高,專利質(zhì)量也越高,同時遭遇侵權(quán)和訴訟的頻率也越高[4]。
三、關(guān)于專利申請權(quán)利要求書的撰寫
權(quán)利要求的撰寫有多種撰寫方式,應(yīng)當要和技術(shù)交底材料的內(nèi)容相適應(yīng)[5]。
1.撰寫前排除明顯不能獲得專利保護的主題
撰寫以前,首先要排除不符合《專利法》第2條有關(guān)發(fā)明或者實用新型的定義的主題,排除明顯屬于《專利法》第5條或者第25條不能授予專利權(quán)的客體,排除明顯不符合《專利法》第22條第4款有關(guān)實用性規(guī)定的主題。
2. 撰寫要求
(1)權(quán)利要求書應(yīng)當包括獨立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求(《專利法實施細則》第20條第1款)。
(2)獨立權(quán)利要求應(yīng)當滿足下列要求:①在合理的前提下具有較寬的保護范圍,能夠最大限度地體現(xiàn)申請人的而利益;②清楚簡明地限定其保護范圍(《專利法》第26條第4款);③記載解決技術(shù)問題的全部必要技術(shù)特征(《專利法實施細則》第20條第2款);④對于現(xiàn)有技術(shù)具備新穎性和創(chuàng)造性(《專利法》第22條第2款、第3款);⑤符合《專利法》及《專利法實施細則》關(guān)于獨立權(quán)利要求的其他規(guī)定。
(3)從屬權(quán)利要求應(yīng)當滿足下列要求:①從屬權(quán)利要求的數(shù)量適當、合理;②與被引用的權(quán)利要求之間有清楚的邏輯關(guān)系(《專利法》第26條第4款、《專利法實施細則》第22條);③當授權(quán)后面臨不得不縮小權(quán)利要求保護范圍的情況時,能提供充分的修改余地;④符合《專利法》及《專利法實施細則》關(guān)于從屬權(quán)利要求的其他規(guī)定。
(4)撰寫多個獨立權(quán)利要求的,多個獨立權(quán)利要求之間應(yīng)當具有單一性。
3. 權(quán)利要求撰寫的方式
(1)不考慮概括的撰寫方式
撰寫的核心任務(wù)是找到技術(shù)交底材料中的區(qū)別技術(shù)特征,并圍繞區(qū)別技術(shù)特征撰寫權(quán)利要求書,將起到基礎(chǔ)、根本作用的區(qū)別技術(shù)特征作為發(fā)明點。技術(shù)交底材料如果針對發(fā)明點只有一個實施例,一般不需要考慮對實施例的概括。
1)不需要對多個實施例的概括情形
以下幾種情況,一般不需要對涉及同一技術(shù)內(nèi)容幾個實施方式進行概括:①如果技術(shù)交底材料只給出一個技術(shù)主題之下的一個實施例的情況,一般不進行上位概括或者功能性概括;②如果技術(shù)交底材料給出了多個實施例,但是多個實施例的之間為主從關(guān)系,可針對基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求(不需要概括),而將其他幾種結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品作為該獨立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求撰寫;③如果交底材料中明確給出了上位或者功能概括的方式,也不需要考慮多個實施例的概括問題。
2)權(quán)利要求不需要概括的情形下的撰寫步驟
針對不需要概括的權(quán)利要求,通過以下6個步驟撰寫:
第一步:技術(shù)特征分析。第一步技術(shù)特征分析中包括兩個方面:列出全部技術(shù)特征;分析技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系。
第二步:找發(fā)明點。找發(fā)明點的步驟中包括兩個方面:技術(shù)對比,找出區(qū)別技術(shù)特征;在區(qū)別技術(shù)特征中確定發(fā)明點。
第三步:確定所要解決的技術(shù)問題。在第三步中,應(yīng)當根據(jù)第二步中確定的發(fā)明點所產(chǎn)生的技術(shù)效果,與最接近的現(xiàn)有技術(shù)對比,確定發(fā)明所要解決的技術(shù)問題。
第四步:確定必要技術(shù)特征。必要技術(shù)特征是解決最根本技術(shù)問題必不可少的特征,實際產(chǎn)品必不可少的特征不一定是必要技術(shù)特征。
第五步:撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在第四步確定必要技術(shù)特征的基礎(chǔ)上,完成獨立權(quán)利要求的撰寫。獨立權(quán)利要求的撰寫分為兩個方面:①確定主題名稱。主題名稱一般限于技術(shù)交底材料提供的產(chǎn)品或者方法的名稱,主題名稱一般不需要概括。主題名稱注意不要出現(xiàn)區(qū)別特征;② 對必要技術(shù)特征在語言上進行調(diào)整。將第四步確定的必要技術(shù)特征進行組合,與最接近的現(xiàn)有技術(shù)做比較,將它們共同的必要技術(shù)特征寫入獨立權(quán)利要求的前序部分,區(qū)別于最接近現(xiàn)有技術(shù)的必要技術(shù)特征寫入特征部分。
第六步:撰寫從屬權(quán)利要求。對其他附加技術(shù)特征進行分析,將那些對申請創(chuàng)造性會起作用的附加技術(shù)特征寫成相應(yīng)的從屬權(quán)利要求。如果從屬權(quán)利要求的數(shù)目不多,現(xiàn)有技術(shù)的特征也可以寫入從屬權(quán)利要求中。
(2)多個實施例的概括撰寫方式
如果針對發(fā)明點有兩個以上的實施例,盡可能將其共性在一個權(quán)利要求中進行概括。
1)多個實施例需要概括的判斷
對于具有多種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品權(quán)利要求而言,在撰寫權(quán)利要求時,首先應(yīng)當分析這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品之間的關(guān)系:
①多個實施例的改進之間為主從關(guān)系;②多個實施例為并列改進,各改進方案之間具有相同的構(gòu)思。a.多個實施例可以進行概括。如果這些不同結(jié)構(gòu)產(chǎn)品之間是并列的、且滿足單一性要求的技術(shù)方案,則應(yīng)當盡可能對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品采用概括方式(上位概括或者功能性概括)的技術(shù)特征加以描述,從而將這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品都納入獨立權(quán)利要求中;在此基礎(chǔ)上再分別針對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的區(qū)別撰寫相應(yīng)的從屬權(quán)利要求;b.多個實施例無法進行概括,可以分別針對這些具有不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求:③多個實施例為并列改進,各改進方案之間不具有單一性。如果幾種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品是并列的技術(shù)方案,且彼此之間不屬于一個總的發(fā)明構(gòu)思,則只能分別在兩件專利申請中以獨立權(quán)利要求方式撰寫。
2)需要概括的權(quán)利要求的撰寫步驟
針對需要概括的權(quán)利要求,仍然通過前面介紹的6步法進行撰寫,在第4步確定必要技術(shù)特征時,需要對多個實施例的共同點進行概括。
對于針對發(fā)明點有兩個以上并列實施例的,可以通過以下方式概括:①功能性概括,采取具有……的功能的裝置/部件/結(jié)構(gòu)的概括方式;②功能性概括,但是不出現(xiàn)部件名稱,而是直接以功能代替具體結(jié)構(gòu);③上位概括,采取部件的上位名稱代替具體部件;④上位概括,不出現(xiàn)上位名稱,而是用省略具體結(jié)構(gòu)的方式表述。
(3)并列發(fā)明點的寫法
如果最根本的區(qū)別特征有兩個或者兩個以上,則屬于并列發(fā)明點。
1)并列發(fā)明點的判斷。出現(xiàn)以下情形時,需要考慮并列發(fā)明點獨立權(quán)利要求的布局問題:①技術(shù)交底材料中明確給出了發(fā)明所要解決的多個最根本的技術(shù)問題,多個根本的技術(shù)問題是并列的,無依存或者主從關(guān)系,實施方式之間也沒有相同構(gòu)思;②雖然技術(shù)交底材料中只有一個最根本所要解決的技術(shù)問題,但是有多個實施方式,多個實施方式之間不具有相同的構(gòu)思,無法進行概括,撰寫為多個并列的獨立權(quán)利要求又不具有單一性。
2)并列發(fā)明點的布局方式。對于技術(shù)交底材料有多個發(fā)明點的撰寫,首先在第一件專利申請中,技術(shù)交底材料給出的技術(shù)內(nèi)容都要寫入到權(quán)利要求中。這時,第二個發(fā)明可能會寫為從屬權(quán)利要求。但是為了充分的保護發(fā)明創(chuàng)造,還需要針對第二個發(fā)明點撰寫成另一項獨立權(quán)利要求及其相應(yīng)的從屬權(quán)利要求,并建議委托人在同日另行提出一件專利申請。
3)撰寫步驟。并列發(fā)明點的撰寫與前面介紹的6步法基本相同,只是多了一個步驟7。在第二步確定發(fā)明點時發(fā)現(xiàn)有兩個或者兩個以上并列發(fā)明點時,在第五步撰寫?yīng)毩?quán)利要求先以第一個發(fā)明點為核心撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在步驟7中,以第二個發(fā)明點為核心再撰寫第一個獨立權(quán)利要求。
(4)并列主題
如果技術(shù)交底材料中出現(xiàn)了產(chǎn)品、制造方法、化學成分、配套的設(shè)備等內(nèi)容,則考慮為并列主題。對于每一個主題,都需要寫成并列獨立權(quán)利要求。如果技術(shù)交底書給出發(fā)明創(chuàng)造的若干技術(shù)主題,則首先要確定技術(shù)主題,在每個技術(shù)主題下,分別按照6步法進行撰寫。
1)判斷技術(shù)主題的類型及數(shù)量
在閱讀技術(shù)交底書的過程中,首先應(yīng)當判斷出技術(shù)交底書中描述的技術(shù)主題的類型,是產(chǎn)品還是方法?如果技術(shù)交底材料中涉及多個技術(shù)主題,在技術(shù)特征分析后,通過特定技術(shù)特征的比較確定多個主題之間是否具有單一性。對于不具有單一性的并列技術(shù)主題,需要撰寫另案申請的權(quán)利要求。
2)并列獨立權(quán)利要求的撰寫方式。并列獨立權(quán)利要求有兩種撰寫方式:①引用式并列獨立權(quán)利要求,例如,多個獨立權(quán)利要求寫為:
“1.一種XX設(shè)備,其特征在于,包括ABCD。
2.一種使用如權(quán)利要求1所述XX設(shè)備的方法,其特征在于:A’B’C’D’”
3.一種YY設(shè)備,其特征在于:將權(quán)利要求1所述的XX設(shè)備與M設(shè)備連接起來?!?
引用式撰寫方式一般用于相互有專屬配合關(guān)系的獨立權(quán)利要求。
②相互不引用的獨立權(quán)利要求,例如,多個獨立權(quán)利要求寫為:
“ 1.一種XX設(shè)備,其特征在于,包括ABCD。
2.一種XX方法,其特征在于,包括A’B’C’D’?!?
四、權(quán)力要求書撰寫注意事項
1.從創(chuàng)造性的角度看
為滿足發(fā)明專利的創(chuàng)造性,在申請文件撰寫中需注意:充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)、權(quán)利要求撰寫要提煉發(fā)明點、說明書撰寫應(yīng)證明發(fā)明創(chuàng)造性的證據(jù)。
(1)充分檢索和分析現(xiàn)有技術(shù)
一般而言,專利發(fā)明人在研發(fā)過程中已經(jīng)對先期技術(shù)有了一定的檢索和了解,然而在專利撰寫過程中仍有必要進一步全面檢索,并深入分析現(xiàn)有技術(shù),看在研發(fā)過程中是否有相關(guān)文獻披露,是否仍然對現(xiàn)有技術(shù)具有貢獻點,這不僅讓撰寫者更全面和客觀地理解現(xiàn)有技術(shù),更能讓撰寫者明白專利申請相對現(xiàn)有技術(shù)的改進之處即發(fā)明點,這有利于后續(xù)的權(quán)利要求書和說明書撰寫中對核心內(nèi)容的把握。
(2)權(quán)利要求撰寫應(yīng)提煉發(fā)明點
權(quán)利要求書是申請人對所保護的技術(shù)內(nèi)容和保護范圍給出清楚、準確限定的法律文件,是發(fā)明專利申請文件中最重要的組成部分。權(quán)利要求的撰寫應(yīng)注意表達具有創(chuàng)造性的發(fā)明創(chuàng)造的內(nèi)容與范圍,在撰寫中需提煉發(fā)明點,即為專利申請的技術(shù)帶來創(chuàng)造性的技術(shù)特征或者技術(shù)特征的組合。一般情況下,建議專利申請人在撰寫時對說明書中的技術(shù)方案進行合理有度的概括,不要一味追求大的保護范圍而過度地抽象概括,使方案本身發(fā)生畸變,從而影響對整個方案的理解和技術(shù)性的判斷,為其后續(xù)審查以及專利申請人的利益帶來不必要的麻煩。
2.從獨立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求的角度看
(1)獨立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求的關(guān)系
權(quán)利要求書是申請人對技術(shù)方案中的技術(shù)特征用法律語言進行的描述,也是授權(quán)后專利保護的技術(shù)范圍,它分為獨立權(quán)利要求與從屬權(quán)利要求。獨立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映技術(shù)方案的主要內(nèi)容,應(yīng)包含全部必要技術(shù)特征,可以獨立存在。在一份權(quán)利要求書中,獨立權(quán)利要求主題的類型必須是明確的,或是方法獨立權(quán)利要求,或是產(chǎn)品獨立權(quán)利要求,而不能在一個獨立權(quán)利要求中既包括方法又包括產(chǎn)品。從屬權(quán)利要求是對其獨立權(quán)利要求的補充限定,限定的技術(shù)特征一定
是已經(jīng)出現(xiàn)于在前的權(quán)利要求中。獨立權(quán)利要求的保護范圍應(yīng)當體現(xiàn)寬,主要是起到專利“進攻”的作用;而從屬權(quán)利要求則是對獨立權(quán)利要求進行補充限定,起到專利 “防守”的作用。所以,一個好的權(quán)利要求書中應(yīng)當有獨立權(quán)利要求和多個從屬權(quán)利要求。
(2)獨立權(quán)利要求保護范圍的“度”的把握
雖然獨立權(quán)利要求的保護范圍應(yīng)當體現(xiàn)寬,但并不是越寬越好,應(yīng)該有一個度的把握。在撰寫?yīng)毩?quán)利要求時切勿將權(quán)利要求寫得較為寬泛,特別是實用新型專利的權(quán)利要求書,獨立權(quán)利要求的范圍太寬,所涵蓋的必要技術(shù)特征過多,可能會涉及他人專利已有的技術(shù)特征,使權(quán)利不穩(wěn)定,易于被他人宣告無效。同時獨立權(quán)利要求的范圍太寬,也容易導致與公知技術(shù)發(fā)生沖突,遭遇公知技術(shù)抗辯。
(3)獨立權(quán)利要求切忌寫入非必要技術(shù)特征
必要技術(shù)特征是指生產(chǎn)產(chǎn)品時技術(shù)上必不可少的技術(shù)特征,獨立權(quán)利要求應(yīng)從整體上反映出發(fā)明全部的必要技術(shù)特征,把非必要技術(shù) 特征寫入獨立權(quán)利要求,將導致專利保護范圍過窄,使專利的保護陷入被動,很難指控他人侵權(quán)。
(4)對權(quán)利要求書的自查和優(yōu)化選擇
在撰寫?yīng)毩?quán)利要求后,應(yīng)該從技術(shù)問題和技術(shù)效果的角度進行自查,獨立權(quán)利要求中的技術(shù)問題和技術(shù)效果應(yīng)相互對應(yīng),盡量刪除不必要的用語和限制。在對從屬權(quán)利要求進行自查時,應(yīng)審視從屬權(quán)利要求是否盡可能引用了獨立權(quán)利要求,是否附加技術(shù)特征,是否對其獨立權(quán)利要求進行補充限定,二者之間的層次是否相差過大。對同一項發(fā)明申請,申請人可以撰寫幾個不同的權(quán)利要求書進行比較,因為要達到既符合國家專利局形式審查和實質(zhì)審查的要求,又能恰到好處地保護申請人的利益是很不容易的,多撰寫幾個權(quán)利要求書,有利于申請人在反復(fù)比較過程中確定一個相對合理的方案。
另外,從屬權(quán)利要求的保護范圍比其引用的獨立權(quán)利要求的保護范圍窄,所以獨立權(quán)利要求如果能夠滿足新穎性和創(chuàng)造性的要求的話,從屬權(quán)利要求也同樣能夠滿足這一條件。從屬權(quán)利要求應(yīng)當具有新穎性和創(chuàng)造性,因為從屬權(quán)利要求包含了獨立權(quán)利要求中所有的技術(shù)特征,并增加了一些新的限定特征[6]。
3.從權(quán)利要求的數(shù)量來看
將獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到需要注意:(1)獨立權(quán)利要求的數(shù)量:數(shù)量越多越能從不同角度如產(chǎn)品和方法上對技術(shù)進行充分保護;(2)從屬權(quán)利要求的數(shù)量:數(shù)量越多越能對抗他人申請同樣或類似的專利,從而與獨立權(quán)利要求共同構(gòu)成完整的權(quán)利保護體系;(3)獨立權(quán)利要求中相對于現(xiàn)有技術(shù)的區(qū)別特征的數(shù)量:在專利技術(shù)創(chuàng)造性確定的情況下,撰寫的獨立權(quán)利要求中區(qū)別特征數(shù)量越多,一般會導致專利保護范圍越小[6]。在符合“清楚”要求的前提下,專利申請獨立權(quán)利要求的撰寫比較上位或者比較概括,專利的保護范圍就較寬,如果寫得過于具體或加進了非必要技術(shù)特征,則專利權(quán)利范圍變小。但也不能認為撰寫得越上位越好,其原因是獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征過于上位會導致權(quán)利要求的不支持,無法有效對抗他人的無效宣告請求,降低專利的穩(wěn)定性,以至于專利質(zhì)量同樣會受到影響。因此,只有將獨立權(quán)利要求中的技術(shù)特征概括得恰到好處才算合理。
五、品源律師觀點
從提高專利質(zhì)量的角度來說,需要從源頭上規(guī)范申請人的申請行為,不能僅僅要求專利申請的數(shù)量或者授權(quán)專利的數(shù)量,而是要從權(quán)利要求的布局撰寫過程中提高專利的質(zhì)量。
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