這里所說的主要是針對實(shí)用新型專利,因?yàn)榘l(fā)明專利一直以來授權(quán)率就不高,這里就沒有必要討論了。針對實(shí)用新型,過去大家認(rèn)為,隨便寫寫,實(shí)用新型必然授權(quán),因此,對實(shí)用新型不屑一顧或者認(rèn)為價(jià)值低。但隨著國家多次強(qiáng)調(diào)創(chuàng)新,專利管理部門也在強(qiáng)化實(shí)用新型的價(jià)值,提升實(shí)用新型價(jià)值,使之能為經(jīng)濟(jì)服務(wù),那么,就存在打擊低質(zhì)量申請的實(shí)用新型的必要性。正是在大環(huán)境下,隨著時(shí)代發(fā)展需要,對實(shí)用新型提出了更多更高要求。而實(shí)用新型將會提升到什么高度,或者將來走向何方,目前沒有公告,但筆者認(rèn)為,很有可能會向發(fā)明靠攏,但靈活性高于發(fā)明專利,具體我們拭目以待。
目前,實(shí)用新型的審查期限,從過去的最快2個(gè)月、3個(gè)月,已經(jīng)發(fā)展6個(gè)月能審查發(fā)文,就不錯了的狀況,朋友圈很多同行直接發(fā)圖,稱實(shí)用新型審查周期8-14個(gè)月,基本上要趕上發(fā)明專利了。這種說法具有代表性,因?yàn)榇蠹覐纳暾埲胀扑慵纯?。所以,出現(xiàn)了以下審查周期的數(shù)據(jù)曲線,告訴大家,如果新申請實(shí)用新型,幾乎就得提前一年準(zhǔn)備了,那種年中申請年底用,就有些被動了。至于原因,顯然是與當(dāng)前申請量大有關(guān)系,還有就是審查員慢也有關(guān)系,那么為什么審查員慢,是因?yàn)閷彶橐庖娒黠@增多!因此,審查時(shí)間越長,審查意見就會越多,授權(quán)率顯然降低!具體多少,目前沒有數(shù)據(jù),我們無從統(tǒng)計(jì)。結(jié)合當(dāng)前實(shí)用新型審查周期和授權(quán)率問題,過去那種包授權(quán)的方式,值得思考了。今天筆者在朋友圈中看到了一份貌似內(nèi)部文件,是關(guān)于低質(zhì)量專利申請問題的,沒有標(biāo)明出處,但筆者似曾相識,因?yàn)樵?013年、2015年都出現(xiàn)過打擊批量、低質(zhì)量專利申請的情況,且不限于實(shí)用新型,對發(fā)明專利也出現(xiàn)過類似方式,引導(dǎo)專利申請向良性發(fā)展。筆者大致整理了一下,以供參考,避免落入低質(zhì)量申請情形。
具有以下特點(diǎn)的實(shí)用新型專利申請確認(rèn)為低質(zhì)量申請的可能性較大:(1)非正常申請工作組提供的相關(guān)低質(zhì)量申請線索,以及初步審查中積累的有關(guān)發(fā)明人、申請人、聯(lián)系人(黑名單)線索。(2)申請的主題名稱為生活領(lǐng)域的常見物品名稱。(3)權(quán)利要求技術(shù)方案極其簡單或保護(hù)范圍過大、或者是現(xiàn)有技術(shù)的簡單拼湊。(4)說明書中發(fā)明內(nèi)容、具體實(shí)施例和權(quán)利要求的內(nèi)容基本相同(三位一體)。(5)說明書附圖結(jié)構(gòu)非常簡單或不符合制圖規(guī)范。(6)屬于低質(zhì)量申請相對集中的重點(diǎn)領(lǐng)域,例如IPC分類A、B. F部下面的一些小類。(7)短時(shí)間內(nèi)集中提交的數(shù)量較大的批量申請,申請主題相近或撰寫方式簡單雷同,例如中小學(xué)生、醫(yī)療器械等方面的批量申請等。 此外,在E系統(tǒng)中已經(jīng)打有低質(zhì)量申請標(biāo)記以及有4、5星級機(jī)檢推送報(bào)告的申請,均屬于疑似低質(zhì)量申請的范疇。
此外,隨著專利審查智能化推行,越來越多的實(shí)用新型專利,甚至有發(fā)明專利的審查,是由機(jī)器檢索完成,因此,對于新穎性的審查,特別是實(shí)用新型中新穎性審查力度加大,對比文件也增多,應(yīng)當(dāng)引起重視。很多同行的審查意見,直接被套用專利法第26條第3款被駁回,這也是對付低質(zhì)量申請的重要條款,特別是一些框圖類申請、模塊類申請、含有簡單已知電路的生活類申請,以及其他情形的說明書未充分公開的低質(zhì)量申請,直接下了第26條第3款適用性意見。此外,對權(quán)利要求為功能性限定以及保護(hù)范圍過寬的申請,以及是否能得到說明書的支持以及說明書中的相關(guān)內(nèi)容是否符合專利法第26條第3款的規(guī)定,是否具有實(shí)用性,等等,都成為實(shí)用新型專利下審查意見的重要方面,也是實(shí)用新型專利撰寫和申請需要避免的。在國家大力提倡科技創(chuàng)新,科技強(qiáng)國的大背景下,在中美貿(mào)易大戰(zhàn)、芯片大戰(zhàn)等等背景下,再來看專利這一國家層面的科技創(chuàng)新媒介,很多問題就能迎刃而解。當(dāng)知識產(chǎn)權(quán)逐漸成為強(qiáng)者的武器的時(shí)候,我們回過神來看專利層面的這些情況變化,就會發(fā)現(xiàn),這些都是大勢所趨,唯有不斷跟隨改變,才能更好地迎接未來,已經(jīng)到來的6月,你準(zhǔn)備好了嗎?